
SK하이닉스 58% 최대폭↑
“과잉” vs “초격차 전략 주효”
올해 전 세계 반도체 업계의 시설투자액이 사상 처음 1000억 달러(약 112조 원)를 돌파할 것으로 관측됐다.
삼성전자가 지난해에 이어 압도적인 투자 규모를 유지한 가운데 SK하이닉스도 상위 5개 업체 중에서 최대 증가율을 기록해 ‘반도체 코리아’의 초격차 전략이 주효할 것으로 전망됐다. 일각에서는 주요 업체들의 설비투자 경쟁으로 인한 과잉 공급 등 부작용 우려도 흘러나오고 있다.
30일 시장조사기관 IC인사이츠에 따르면 올해 전세계 반도체 업체들의 시설투자 규모는 총 1071억4000만 달러로 추산됐다. 역대 최고치였던 지난해(934억7700만 달러)보다 15% 늘어난 수치다.
업체별로는 삼성전자가 226억2000만 달러로 전체 시설투자에서 21.1%의 비중을 차지하며 가장 많이 투자한 기업이 됐다. 지난해(242억3200만 달러)보다는 7% 줄었으나 역대 최고 수준을 유지하면서 경쟁업체인 미국 인텔을 앞섰다.
인텔이 2017년보다 32% 늘어난 155억 달러로 뒤를 이었고, SK하이닉스(128억 달러)와 대만 TSMC(102억5000만 달러), 미국 마이크론(99억6000만 달러) 등이 ‘톱 5’에 이름을 올렸다.
특히 SK하이닉스는 지난해(80억9100만 달러)보다 58%나 설비투자를 늘리면서 TSMC를 제치고 3위에 올라섰다.
IC인사이츠는 보고서에서 “지난해와 올해 이어진 삼성전자의 대규모 투자는 장기적으로 시장에 영향을 줄 것”이라면서 “3D 낸드플래시 시장은 이미 과잉설비 국면이 시작됐다”고 지적했다.
이어 최근 메모리 반도체 시장의 성장세가 주춤하면서 내년에는 대형 업체들이 설비투자 속도를 조절할 것으로 내다봤다. 내년 전체 설비투자액은 다시 1000억 달러를 밑돌 것이라는 전망이다.
업계 관계자는 “삼성전자와 SK하이닉스의 대규모 투자에 대해 과잉공급 우려가 일기도 하지만 중국 업체의 추격을 따돌리면서 시장 주도권을 유지하는데 상당한 효과를 볼 수 있을 것”이라고 말했다.
권도경 기자 kwon@munhwa.com
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